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射頻濺射與直流濺射不同工藝制備ITO薄膜文獻匯總

2020-06-01 13:42來源:蒂姆(北京)新材料科技有限公司作者:蒂姆(北京)新材料科技有限公司網址:http://www.146019.tw瀏覽數:3
射頻濺射與直流濺射不同工藝制備ITO薄膜文獻匯總
一、射頻濺射相關文獻:
1. 1 PET基片上射頻磁控濺射不同厚度ITO薄膜的光電學特性
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1.2 射頻磁控濺射室溫下制備ITO薄膜的光學性能研究
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1.3制備工藝對ITO薄膜的電阻率及沉積速率的影響


二、直流濺射相關文獻:
2.1 直流磁控濺射功率對ITO薄膜光電學性能的影響

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三、直流和射頻濺射對比相關文獻:
3.1直流磁控濺射工藝對ITO 薄膜光電性能的影響
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蒂姆(北京)新材料科技有限公司
主要產品:ITO圓片顆粒、ITO燒結顆粒、ITO靶材、HfO2靶材、HfO2顆粒、ZnO靶材、Al2O3靶材

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