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磁控濺射制備鋁薄膜文獻參考匯總

2020-06-01 13:44來源:蒂姆(北京)新材料科技有限公司作者:蒂姆(北京)新材料科技有限公司網址:http://www.146019.tw瀏覽數:5

直流濺射制備鋁薄膜的文獻參考:
1.直流磁控濺射制備鋁薄膜的工藝研究
作者:陳國良,郭太良

摘要:采用直流磁控濺射方法,以高純Al為靶材,高純Ar為濺射氣體,在玻璃襯底上成功地制備了鋁薄膜,并對鋁膜的沉積速率,結構和表面形貌進行了研究.結果表明:Al膜的沉積速率隨著濺射功率的增大先幾乎呈線性增大而后緩慢增大;隨著濺射氣壓的增加,沉積速率先增大,在一定氣壓時達到峰值后繼續隨氣壓的增大而減小.X射線衍射圖譜表明Al膜結構為多晶態;用掃描電子顯微鏡對薄膜進行表面形貌的觀察,濺射功率為2600 W,濺射氣壓為0.4 Pa時制備的Al膜較均勻致密。
文獻鏈接:https://xueshu.baidu.com/usercenter/paper/show?paperid=f866cadc9e1e9c0f6e6202345840b556&site=xueshu_se

2.直流磁控濺射制備鋁薄膜工藝參數
作者:楊棟華
摘要:采用直流磁控濺射法,在硅基片 上制備鋁薄膜.用掃描電子顯微鏡(SEM)、X-射線衍射儀(XRD)等對薄膜的表面形貌和結構進行了分析,研究了不同工藝參數對薄膜表面形貌的影響,分 析了制備鋁薄膜的影響因素.分析結果表明該薄膜為純鋁薄膜,并且晶粒很小.實驗得到制備鋁薄膜的工藝參數為:本底真空度4.0×10-4Pa、工作真空度 1.7 Pa、氬氣流量20 cm3/s、工作電壓300 V、工作電流1 A.

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https://xueshu.baidu.com/usercenter/paper/show?paperid=54d0bcf5fffab9de4a45d35c78b573c8&site=xueshu_se

3.磁控濺射法制備金屬薄膜的工藝參數
作者:謝文權

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