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碳化鉬靶材(Mo2C)
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品牌: 蒂姆新材料
材質: Mo2C
規格: 99.5% 尺寸可定制
供貨狀態: 靶材
相關產品: 碳化硅靶材,碳化鈦靶材,碳化鎢靶材,碳化鈦顆粒,碳化鎢顆粒,碳化硅顆粒
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碳化鉬靶材,適用于濺射鍍膜領域,是航天、航空等高科技領域以及汽車制造業不可缺少的關鍵材料,在半導體芯片、MEMS傳感器、光電器件、寬禁帶半導體、石墨烯等行業領域應用廣泛。


一、主要用途

適用于磁控濺射制備薄膜


二、適用領域

1、適用濺射設備品牌:

A.適用設備:單靶濺射系統,雙靶濺射系統,JC500型磁控濺射儀,DE300DL 磁控濺射系統

B.適用設備品牌:國產品牌:南光機器廠、北京儀器廠、金盛微納、沈陽科儀、JK-LASKER、微電子所等品牌

進口品牌:美國MRC,CVC、Varian公司等品牌

2、常規尺寸:

1.直徑:1英寸,2英寸,3英寸,4英寸,5英寸等不同直徑

2.厚度:1mm,2mm,3mm,4mm等尺寸可定做


三、產品詳情及價格:

貨號產品名稱規格包裝數量單價交期
Mo2C-T2524碳化鉬 靶材(Mo2C)99.5% φ50.8*4mm1
10-12個工作日
注:以上均為含稅含運費價格,13%增值稅發票,發票隨貨寄。
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